Физика/3. Физика плазмы и плазменная техника

к.ф.-м.н. Усеинов Б.М., м.т.н. Трапезников Е.В.

Северо-Казахстанский Государственный университет им.М. Козыбаева, Республика Казахстан

Модель ускорителя слабоионизованного плазменного потока

В последние годы активно активно  развиваются плазменные технологии, связанные практическим осуществлением взаимодействия слабоионизованного плазменного потока с поверхностью материалов, с целью улучшения их эксплуатационных свойств. При реализации такого проекта необходимо решать проблему формирования ускорения слабоионизованной плазмы до больших скоростей с повышенным энергосодержанием [1]

Это также связано с  областями использования  слабоионизованной плазмы в научных исследованиях, разработке технических проектов и технологических процессов. Например, неидеальная плазма возникает при изучении плазматронов в лабораторных условиях, в ионосфере.

Таким образом, на сегодняшний день является актуальным изучение свойств и характеристик слабоионизованной плазмы.

В данной работе предлагается модель формирования и ускорения слабоионизованной плазмы КПУ со сплошным наполнением рабочего газа (рисунок 1).

Рисунок 1. Модель формирования и ускорения слабоионизованной плазмы

В предлагаемой   модели лежит  идея ионизации газа методом инжекции, используемого в токамаках (разогнанные до больших скоростей ионы впрыскиваются в вакуумную камеру, где находятся горячие электроны). В рассматриваемой модели вакуумная камера делится на несколько отсеков, разделённых клапанами виде затворов, каждая из которых подключается к форвакуумному насосу. Причём давление в каждой последующей камере меньше предыдущего.  В отсеке, где размещена электродная система, подводится система подачи рабочего газа (гелий, аргон, водород, кислород, азот). Источником запасаемой энергии служит конденсаторная батарея общей емкостью C=3-75 мкФ и номинальным напряжением 50 кВ, в качестве коммутирующего элемента может использоваться ртутный разрядник ИРТ-6. Электродная система представляет собой два медных электрода цилиндрической геометрии разделенных между собой слоем изолятора. Электродная система помещается в вакуумную камеру изготовленную из нержавеющей стали. Все элементы и узлы ускорителя: система подачи рабочего газа, затвор и конденсаторная батарея работают синфазно. С этой целью используется синхронизатор, который автоматически выставляет время задержки между подачей газа в камеру, процессом ионизации газа, разрядом конденсаторной батареи и отпиранием клапана.

Предлагаем принцип работы данного ускорителя: одновременно откачиваются все вакуумные камеры  до различных  давлений, начиная с  давления p=10-5 мм.рт.ст., подаётся  до напряжения U=15-20 кВ. С помощью игольчатого натекателя напускается газ в первую камеру до давления p=10-3 мм.рт.ст. при котором автоматически происходит разряд конденсаторной батареи через объем газа и образуется слабоионизованная плазма. Синхронно с этим автоматически открываются все клапаны разделяющие все камеры и образовавшийся плазменный сгусток ускоряется, увеличивая скорость  от одной камеры к другой и т.д. и затем к выходу ускорителя. При этом слабоионизованная плазма получает дополнительное ускорение за счет разности давления в  первой, второй и последующих камер вплоть до последней камеры. В случае, когда разряд пройдет по воздуху необходимо использовать разрядную ловушку. Значение токов и напряжений, проходящих через плазму определяются с помощью пояса Роговского и ёмкостного делителя напряжения, давление вакуумной камеры контролируется вакуумметром, скорость плазменного потока можно определить с помощью зондов.

Предлагаем математическое описание процессов формирования и ускорения слабоионизованной плазмы в рамках электродинамической модели [2]. Система уравнении модели ускорения  запишется в виде:                 

 

 

 

В случае малого затухания  получим

 

В модели учтено, что вследствие кратковременного взаимодействия плазмы со стенками плазмопровода джоулевым теплом можно пренебречь, предполагается, что конденсаторная батарея полностью разряжается и принимаем энергию разряженного конденсатора  равной нулю. С учётом сделанных допущений получим конечное  выражение для скорости плазмы:

На рисунке 2 представлен набор графиков зависимости скорости плазменного потока при начальных параметрах и при напряжении от 20000 В до 40000 В с шагом в 1000 В.

Полученный набор графиков наглядно демонстрирует, что чем выше напряжение конденсатора, тем большую скорость развивает плазменный сгусток. Причем явно видно, что при увеличении напряжения конденсатора в 2 раза, скорость плазменного потока так же увеличится в 2 раза.

Рассмотрим влияние емкости конденсаторной батареи на форму графика скорости. Отклонение емкости от начального значения составляет 50 мкФ в каждую сторону с шагом в 25 мкФ.

Как показано на рисунке 3, с увеличением емкости конденсаторной батареи растёт  максимальной скорости плазменного потока. Эта зависимость  не линейная. При значении емкости 0,001 Ф максимальная расчетная скорость плазменного сгустка будет около 950 м/с, а при значении емкости 0,002 Ф скорость плазмы будет составлять 1350 м/с. То есть при увеличении емкости конденсаторной батареи в 2 раза, скорость увеличится в 1,4 раза.

Рисунок 2. Графики зависимости скорости при различных значениях напряжения

Рисунок 3. Графики зависимости скорости при различных значениях емкости

Таким образом, в работе представлена усовершенствованная модель формирования ускорения слабоионизованной плазмы, основанная на пошаговом ускорении с возрастающей скоростью, результаты компьютерного моделирования ускорения плазменного потока. Пошаговое ускорение слабоионизованной плазмы препятствует распаду плазмы, что возможно было бы при ускорении сразу в камере с очень низким давлением близким к абсолютному вакууму.

 

Литература:

1.    А. И. Морозов. «Плазменные ускорители»: http://www.femto.com.ua/articles/part_2/2853.html.

2.    Ермолич В.В., Усеинов Б.М. Использование методов компьютерного моделирования при исследовании взаимодействия неидеальной плазмы с поверхностью материалов // VIII Международная научно-практическая конференция: «Методы и средства подготовки конкурентоспособных специалистов: теория и практика». – Омск. – 2014. – С. 77-79.